半导体工业废水的处理方法都有哪些？（半导体工业废水的处理方法都有哪些呢）

随着我国经济的快速发展，半导体产业的发展也在迅速崛起，那么在半导体工业的加工过程中必然会产生氟离子、铜离子、磷废水等污染物的废水，下面来列举一些半导体工业废水的处理方法都有哪些?

氟离子废水处理:将废水的pH值调节到6-7左右，然后加入过量的CaCl2和适量的絮凝剂，后续形成沉淀，部分污泥循环进入载体，在沉淀池中通过重力沉淀法可实现泥水分离。在第一次反应中，80%的氟可以被去除。再次加入絮凝剂，氟化钙等沉淀形式经污泥泵输送至污泥沉淀池，经板框式脱水机压成泥饼。此时，产生的压滤滤液进入其他系统进行进一步处理。含磷废水的处理含磷废水中的磷主要为PO43-。所采用的方法是化学沉淀法和混凝沉淀法相结合。不溶于水的Ca5(PO4)3OH通过加入CaCl2而析出。一次反应池pH调至5-6左右，二次反应池pH调至8.5-9，三级反应池pH调至9-9.5(以保证磷酸羟钙的完全形成)。该工艺相对简单，成本也相对较低，对于含磷废水的处理有很大的适用性。研磨废水混合:电镀废水和半导体器件制造产生的研磨废水混合。将混合废水泵过滤入浸膜过滤装置，过滤后的水泵过滤入纳滤膜过滤装置。通过纳滤膜过滤装置过滤的水可以直接重复使用。

以上就是半导体行业污水处理方法的小编都有哪些，后面会讲更多污水处理的相关内容。