半导体工业含氟废水的处理方法（半导体工业含氟废水的处理方法有哪些）

含氟工业废水主要来源于铝冶炼、磷矿加工、磷肥生产、钢铁冶炼和煤炭半导体燃烧过程的排放，氟是有毒物质的积累，当工业废水排放到自然界中时，植物和动物受到一定程度的影响，下面就具体介绍一下半导体工业含氟废水的处理方法。

目前半导体行业常用的含氟废水处理方法有离子交换、吸附、膜分离和沉淀:

离子交换:通过阴离子交换树脂进行离子交换，达到除氟的目的;

吸附法:吸附需采用独特的处理剂并设置专用的机械设备，用羟基磷灰石活性氧化镁稀土金属氧化物等新型吸附剂可提高实际处理效果，适用于小水流量的生活用水深度处理;

膜分离:是指利用膜的选用，在外界能量的作用下，将溶质和溶剂进行污水分离，主要优点是效率高、工艺简单、环保、能耗低;

沉淀法:当半导体含氟废水中氟离子的原始浓度在1000 ~ 3000mg/L之间时，石灰粉法处理后氟离子的最终浓度达到20 ~ 30mg/L。

温馨提示:由于处理过程中污泥沉降速度较慢，适当加入一些氯化钙或其他絮凝剂可以加快悬浮物的沉淀速度，同时需要将pH维持在一个比较高的高度，以降低氟离子、磷酸盐、镁盐、铝盐等的浓度，比单纯的钙盐脱氟效果明显。

以上就是半导体行业含氟废水的处理方法小编。由于不同行业的组成、水量和浓度不同，需要分析具体的规划。