半导体碳化硅的污水处理方法（半导体碳化硅的污水处理方法有哪些）

半导体碳化硅主要由生产绿色碳化硅需要加入盐木屑、石英砂、石油焦(或煤焦)等原料通过电阻炉高温冶炼而成，通常称为难熔砂或金钢砂，是一种无机物，在加工过程中会产生大量的工业废水，下面来了解一下关于半导体碳化硅污水的处理方法。

半导体碳化硅废水切削液耗水量大，C0D浓度高且悬浮物较多，主要含有金属离子、金属离子、水玻璃、聚乙二醇等污染物，在碳化硅污水处理过程中也是碳化硅粉体回收过程。

半导体废水处理中去除废金属、聚乙二醇、多晶硅等杂质的同时也是回收碳化硅的回收工艺，既保护了环境又节约了资源。

碳化硅污水可采用化学处理、物理处理、生化处理三种处理方式，由于悬浮物较多，一般都会采用沉淀的方式，不同污水成分中添加的水处理剂也不一样。

将碳化硅处理污水送入沉淀池进行自然沉淀分离，沉淀池水进入膜分离池，通过膜设备进行分离浓缩，超滤膜过滤操作压力控制在0.1-0.6MPa，反冲洗每20分钟进行2分钟，反冲洗控制反冲洗水或膜膨胀至正压0.2kg/c平方米，以恢复超滤膜的过滤通量。膜分离罐内的浓缩液经脱水机脱水，滤液送回膜分离罐内，滤饼作为副产物回收销售。膜设备上清液用于车间生产。