光刻胶的污水处理用的是什么设备？（光刻胶的污水处理用的是什么设备呢）

目前，平板显示、LED加工、印刷电路板、微机电领域、金刚石表金属薄膜电极的制备、各种光栅、光子晶体等微纳光学元件、生物芯片、光刻微针等都是光刻胶领域的一部分。对于产品加工过程中产生的大量污水，应采用什么设备进行处理?

光刻胶是指通过紫外线、电子束、离子束、x射线等照射或辐射，胶体溶解度发生变化的耐腐蚀薄膜材料。

这些电子设备所用的原材料主要有树脂溶液、光敏剂、溶剂等。光刻胶废水的主要来源是原料净化产生的废水、生产过程中产生的废液、清洗设备产生的废水。

光刻胶污水属于有机硅污水的一种，因此可以采用电子污水处理设备进行污水处理，污水处理方法可以采用:

1、物理法:网格在物理法中主要用于拦截大块悬浮或漂浮状态的固体污染物，也可以收集原有的胶体材料进行回收利用，从而提高材料的利用率，降低成本。

2、混凝沉淀法:向污水中加入混凝剂，混凝剂可使水中的悬浮物和胶体物质等聚集成大颗粒的絮凝体，在下落过程中可加快沉淀速度，最终达到固液分离的目的。

3、生物法:生物法可以实现去除部分COD，从而提高B/C，主要采用厌氧+好氧生物处理方法。

光刻胶工业废水中的主要污染物是树脂合成、生物可降解物质、有机物、石油等，所以在自然界中不能直接排放，但不同的工业原料是不一样的，因为水处理工艺也不同。